Program Committee

Manuel Thesen, micro resist technology GmbH

Michael Mühlberger, Profactor GmbH

Michael Hornung, AMO GmbH

Theodor Nielsen, NIL Technology

Hubert Teyssèdre, CEA/LETI

Marc Verschuuren, SCIL Nanoimprint solutions

Martin Eibelhuber, EVGroup

Margarete Zoberbier, SUSS MicroTec Lithography GmbH